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密閉動態(tài)控溫系統(tǒng)可控介質溫度，可控物料溫度，特別適合對反應工藝、過程控制更精準要求的用戶，在化學工業(yè)和制藥工業(yè)的產(chǎn)品開發(fā)和生產(chǎn)過程中，溫度控制對于安全和高質量的反應產(chǎn)品都是至關重要的
高低溫動態(tài)溫控系統(tǒng)采用全密閉設計，不設浴槽，專用于對外部負載進行恒溫控制，只有管路里面的介質參與循環(huán)控溫、降低了導熱介質的參與量，提升了系統(tǒng)高低溫控溫的響應速度。
PTHC系列密閉動態(tài)控溫系統(tǒng)采用全密閉設計，不設浴槽，專用于對外部負載進行恒溫控制，采用密閉設計，高溫時不會產(chǎn)生油霧和刺鼻氣味揮發(fā)到環(huán)境中、低溫不吸收環(huán)境空氣中雜質和水份，只有導熱介質參與循環(huán)，膨脹罐的溫度始終保持在較低溫度，避免了空氣進入循環(huán)系統(tǒng)后帶來循環(huán)介質變質及環(huán)境不友好等諸多問題。
PTHC密閉動態(tài)溫度控制系統(tǒng)采用全密閉設計，不設浴槽，專用于對外部負載進行恒溫控制，采用密閉設計，高溫時不會產(chǎn)生油霧和刺鼻氣味揮發(fā)到環(huán)境中、低溫不吸收環(huán)境空氣中雜質和水份，只有導熱介質參與循環(huán)，膨脹罐的溫度始終保持在較低溫度，避免了空氣進入循環(huán)系統(tǒng)后帶來循環(huán)介質變質及環(huán)境不友好等諸多問題。
PTHC密閉制冷加熱控溫系統(tǒng)主要應用于反應釜高精度溫度控制，以及材料測試中的溫度條件模擬，擁有寬廣的溫度范圍和強勁的升降溫速率。該系列可提供 -40-250℃的溫度控制范圍，配套反應釜，特別適用于快速放熱和吸熱的化學反應試驗。
PTHC密閉制冷加熱循環(huán)裝置使用動態(tài)制冷控制技術，高溫下同樣擁有很低的功率制冷，保障溫度穩(wěn)定性，同時可以確保系統(tǒng)在高溫下的快速制冷降溫；
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